তহবিল সংগ্রহ ১৫ সেপ্টেম্বর 2024 – ১লা অক্টোবর 2024 তহবিল সংগ্রহের বিষয়ে

Principles of Lithography, Fourth Edition

Principles of Lithography, Fourth Edition

Harry J. Levinson
5.0 / 0
0 comments
এই বইটি আপনার কতটা পছন্দ?
ফাইলের মান কিরকম?
মান নির্ণয়ের জন্য বইটি ডাউনলোড করুন
ডাউনলোড করা ফাইলগুলির মান কিরকম?
This newest edition of Principles of Lithography reflects the continuing advancement of lithographic technology. In recent years, certain topics, such as line-edge roughness (LER), multi-electron-beam writers, and nonlinear overlay models, have become much more significant to practicing lithographers, and more extensive treatments are therefore provided. EUV lithography is on the threshold for use in high-volume manufacturing, at nodes where a number of complex phenomena are relevant, and the chapter on EUV lithography has been expanded accordingly. New references and homework problems have been added. It is expected that the reader of this book will have a foundation in basic physics and chemistry. No topics will require knowledge of mathematics beyond elementary calculus.
ক্যাটাগোরিগুলো:
সাল:
2019
সংস্করণ:
4 edition
প্রকাশক:
SPIE
ভাষা:
english
পৃষ্ঠা:
593
ISBN 10:
1510627618
ISBN 13:
9781510627611
ফাইল:
PDF, 33.66 MB
IPFS:
CID , CID Blake2b
english, 2019
অনলাইনে পড়া
তে রূপান্তর প্রক্রিয়া চলছে
-এ রূপান্তর ব্যর্থ হয়েছে

প্রায়শই ব্যবহৃত পরিভাষা